Peel-Off Pore Perfecting Mask
Details
https://www.pupamilano.hu/borapolas/arc/opacizalok/peel-off-pore-perfecting-mask/2T1T05A001.htmlVariations
Variations
Egy olyan peel off arcmaszk, mely ideális a fekete pontok és szennyeződések eltávolításához. A Bambusz Szén mély tisztító hatásának köszönhetően segít eltávolítani a fekete pontokat, szabaddá teszi az eldugult pórusokat és elnyeli a többlet faggyút.
Hetente 2 alkalommal kell használni a saját szépségápolási rutin kiegészítéseként vagy a meglepő Hamupipőke hatásért.
Minden bőrtípusnak megfelel.
Bőrgyógyászatilag tesztelt.
Parabén mentes.
Gyártás helye: Olaszország.
A tisztító tulajdonságokkal rendelkező Bambusz Szén és az antioxidáns hatású E-vitamin elnyelik a többlet faggyút és mélyre hatolva tisztítják a bőrt, hogy szabaddá tegyék az eldugult pórusokat.
Minden bőrtípusnak megfelel.
Bőrgyógyászatilag tesztelt.
Parabén mentes.
Gyártás helye: Olaszország.
Szükség esetén használd, hetente max. 2 alkalommal.
Vigyél fel egy bő réteget a megtisztított arcra és hagyd 15/20 percig vagy addig hatni, amíg a maszk meg nem szárad. Gyengéden emeld fel a kialakult hártyát és vízzel távolítsd el az esetleges maradványokat.
Az összetevők listája folyamatosan frissül. Ugyanakkor kérjük, hivatkozzanak a csomagoláson feltüntetett összetételre.
AQUA (WATER), POLYVINYL ALCOHOL, ALCOHOL DENAT., PHENOXYETHANOL, SODIUM POLYACRYLATE, DICAPRYLYL CARBONATE, CHARCOAL POWDER, TOCOPHERYL ACETATE, CI 77499 (IRON OXIDES), ETHYLHEXYLGLYCERIN, PARFUM (FRAGRANCE), ALUMINA, POLYGLYCERYL-3 CAPRATE, SORBITAN TRIOLEATE, POLYGLYCERIN-10, POLYGLYCERYL-10 MYRISTATE, POLYGLYCERYL-10 STEARATE, CITRONELLOL, CITRIC ACID, SILICA, LIMONENE, ALPHA-ISOMETHYL IONONE, CI 77491 (IRON OXIDES)